Wie wir wissen, finden optische Filme breite Anwendung in der Elektronikindustrie. Und es gibt viele Arten von Filmen für unterschiedliche Zwecke. Unsere Firma Daken Chemical ist ein Profi Anbieter von elektronischen Chemikalien, und Materiallieferant von optischen Dünnfilmen; In diesem Beitrag werden wir drei Möglichkeiten zur Herstellung optischer Dünnschichten vorstellen.
Die Verwendung von Antireflexionsfolie kann den Lichtstromverlust komplexer optischer Linsen um das Zehnfache reduzieren; die Verwendung von Spiegeln mit hohem Reflexionsvermögen kann die Ausgangsleistung des Lasers verdoppeln; Die Verwendung optischer Dünnschichten kann die Effizienz und Stabilität von Silizium-Fotozellen verbessern. OK. Lassen Sie uns den 1. Weg überprüfen.
Physikalische Dampfabscheidung (PVD)
PVD erfordert die Verwendung einer Vakuumbeschichtungsmaschine, die hohe Herstellungskosten hat, aber die Dicke des Films kann genau gesteuert werden, und die Filmfestigkeit ist gut. Es ist weit verbreitet. Entsprechend den unterschiedlichen Verdampfungsverfahren des Folienmaterials wird das PVD-Verfahren in thermische Verdampfung, Sputtern, Ionenplattierung und ionenunterstützte Beschichtungstechnologie unterteilt.
Nachfolgend sind die vier verschiedenen Möglichkeiten aufgeführt:
１.Thermische Verdampfung
In der Vakuumkammer wird das zu verfilmende Rohmaterial im Verdampfungsbehälter erhitzt, so dass seine Atome oder Moleküle verdampfen und von der Oberfläche entweichen, um einen Dampfstrom zu starten, der auf die Oberfläche eines Festkörpers auftrifft (genannt a Substrat oder einem Substrat) und kondensiert, um einen festen Film zu bilden.
2. Sputtern
Sputtern bezieht sich auf das Beschießen der Oberfläche des Filmmaterials mit positiven Hochgeschwindigkeitsionen. Durch Impulsübertragung erhalten die Moleküle oder Atome genügend kinetische Energie, um von der Zieloberfläche zu entkommen (Sputtern) und zu einem Film auf der Oberfläche des plattierten Teils zu kondensieren.
3. Ion plating
Die Ionenplattierung hat sowohl die hohe Filmbildungsrate der thermischen Verdampfung als auch den doppelten Vorteil einer dichten Filmschicht durch Sputtern mit hochenergetischem Ionenbeschuss. Die Ionenplattierungsschicht weist eine starke Haftung und Kompaktheit auf – übliche Arten der Ionenplattierung: Verdampfungsquelle und Ionisationsverfahren.
Chemische Gasphasenabscheidung
Die chemische Gasphasenabscheidung ist eine Technologie, die gasförmige Vorläuferreaktanten verwendet, um durch chemische Reaktionen zwischen Atomen und Molekülen feste Dünnschichten zu erzeugen.
CVD erfordert im Allgemeinen eine höhere Abscheidungstemperatur und erfordert spezifische Vorläuferreaktanten vor der Filmherstellung. Einige Nebenprodukte wie brennbare und giftige Stoffe werden auch während des Filmherstellungsprozesses produziert. Die Abscheidungsrate von durch CVD-Technologie hergestellten Filmen ist jedoch im Allgemeinen höher.
Chemische Flüssigkeitsabscheidung
Das CLD-Verfahren ist einfach und die Herstellungskosten sind gering. Dennoch kann die Filmdicke nicht genau kontrolliert werden. Die Filmfestigkeit ist schlecht. Die Filmfestigkeit ist schlecht. Es gibt auch ein Verschmutzungsproblem, das durch Abwasser und Abgase verursacht wird, die selten verwendet wurden.
Über Daken Chemical
Henan Daken Chemical Co., Ltd wurde im Juni 1983 gegründet. Wir haben eine 38-jährige Geschichte in der feinchemischen Synthese. Zu unseren Hauptprodukten gehören Leistungsmaterialien, benutzerdefinierte Synthese, Weitere Produkte finden Sie unter: https://www.dakenchem.com/products/
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