Como sabemos, las películas ópticas tienen amplias aplicaciones en la industria electrónica. Y hay muchos tipos de películas para diferentes usos. Nuestra empresa Daken Chemical es un profesional proveedor de productos químicos electrónicos, y proveedor de material de películas delgadas ópticas; En esta publicación, compartiremos tres formas de producir películas delgadas ópticas.
El uso de una película antirreflectante puede reducir diez veces la pérdida de flujo luminoso de las lentes ópticas complejas; el uso de espejos de alta reflectancia puede duplicar la potencia de salida del láser; el uso de películas ópticas delgadas puede mejorar la eficiencia y la estabilidad de las fotocélulas de silicio. Está bien. vamos a comprobar la primera forma.
Deposición física de vapor (PVD)
PVD requiere el uso de una máquina de recubrimiento al vacío, que tiene altos costos de fabricación, pero el espesor de la película se puede controlar con precisión y la resistencia de la película es buena. Ha sido ampliamente utilizado. De acuerdo con los diferentes métodos de vaporización del material de la película, el método PVD se divide en tecnología de evaporación térmica, pulverización catódica, recubrimiento iónico y recubrimiento asistido por iones.
A continuación se muestran las cuatro formas diferentes:
１.Evaporación térmica
En la cámara de vacío, la materia prima que se formará en la película en el recipiente de evaporación se calienta para que sus átomos o moléculas se vaporicen y escapen de la superficie para iniciar una corriente de vapor, que incide en la superficie de un sólido (llamado sustrato o un sustrato) y se condensa para formar una película sólida.
2. pulverización catódica
La pulverización se refiere al bombardeo de la superficie del material de la película con iones positivos de alta velocidad. A través de la transferencia de cantidad de movimiento, las moléculas o átomos obtienen suficiente energía cinética para escapar de la superficie objetivo (pulverización) y condensarse en una película sobre la superficie de la pieza enchapada.
3. Recubrimiento de iones
El recubrimiento iónico tiene tanto la alta tasa de formación de película de la evaporación térmica como el efecto de doble beneficio de la capa de película densa mediante el bombardeo de iones de alta energía por pulverización catódica. La capa de recubrimiento iónico tiene una fuerte adhesión y compacidad: tipos comunes de recubrimiento iónico: fuente de evaporación y método de ionización.
Deposición de vapor químico
La deposición química de vapor es una tecnología que utiliza reactivos precursores gaseosos para generar películas delgadas sólidas a través de reacciones químicas entre átomos y moléculas.
CVD generalmente requiere una temperatura de deposición más alta y requiere reactivos precursores específicos antes de la preparación de la película. Algunos subproductos como inflamables y tóxicos también se producen durante el proceso de preparación de la película. Sin embargo, la tasa de deposición de películas preparadas por tecnología CVD es generalmente más alta.
Deposición de líquidos químicos
El proceso CLD es simple y el costo de fabricación es bajo. Aún así, el espesor de la película no se puede controlar con precisión. La fuerza de la película es pobre. No es fácil obtener una película multicapa. También existe un problema de contaminación por aguas residuales y gases residuales, que rara vez se ha aprovechado.
Acerca de Daken Química
Henan Daken Chemical Co., Ltd se estableció en junio de 1983. Tenemos 38 años de historia en síntesis química fina. Nuestros principales productos incluyen materiales de rendimiento, síntesis personalizada,para más productos por favor visite: https://www.dakenchem.com/products/
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